無題ドキュメント

テクノクオーツは主に半導体・液晶製造装置関連及び理化学機器に使用される高精度な
石英ガラス・シリコン・セラミックス製品を提供します。


◆縦型石英ボート◆	◆石英台座◆	◆ベルジャー◆
半導体製造装置向けの縦型石英ボート。縦型・横型の各種形状が製作可能です。	石英のロッド・チューブの溶接組上げにより、あらゆる形状の石英部品を製作することが出来ます。	板厚のバラツキの少ない高精度溶接ベルジャー。


◆ガス分散板◆	◆石英リング◆	◆石英反応管◆
精密穴加工を行った石英板。 φ0.1ｍｍの微細穴加工にも対応します。	さまざまな形状のリング製品の製作が可能。	300mmウェハーに対応した各種大型反応管の製作が可能です。

半導体･FPD製造プロセスで使用される結晶シリコンの製品です。大型パーツでは、多結晶シリコン材などが利用されます。

◆Siガスシャワープレート◆	◆Siリング◆
精密穴明けを行ったシリコンプレートです。高アスペクト比の微細深穴加工も可能です。	様々な形状のリング製品が製作可能です。

◆４ｃｈ試料導入チップ◆

◆ダイシングソー溝加工◆

超精密機械加工により小径穴や3次元的微細流路の形成を可能にし、アイディアに応じた加工をご提案いたします。

<< 用途 >>
マイクロチップ／マイクロリアクタ／マイクロミキサー
◎独自の接合技術により、耐圧強度の高いマイクロチップを製作いたします。

詳しくはこちらの資料をご覧ください。
◆石英ガラス製マイクロチップ(PDF形式：950KB)

登録済み特許

特許4841063号　マイクロチャンネル構造体およびその製造方法
特許4729763号　基板のエッチング方法

２００７年９月より受託洗浄サービスを開始しました。

<< 洗浄対象プロセス >> ●CVD ●スパッタリング ●イオンミリング ●ドライエッチング（半導体･液晶） ●エピ ※その他プロセスについてはご相談ください。
	パーツ材質：セラミックス，シリコン，金属（SUS、Al、ハステロイ），コーティング品（アルマイト等）

<< 洗浄事例 >>

膜種にもよりますが、CVD等の成膜プロセスで使用されるセラミックス･金属パーツの表面付着膜を除去することが可能です。母材に極力ダメージを与えない洗浄方法を採用しておりますので、初期表面を維持したい場合に有効です。

「CVDイットリア」は、耐プラズマ性に優れた透明性保護膜です。
密着性が高い緻密膜ですので、プラズマ処理プロセス（F系、Cl系）で使用されるウィンドウ類の保護膜として有効です。
詳しくはこちらの資料をご覧ください。 ◆耐プラズマ表面処理／CVDイットリアコート製品　 (PDF形式：1,596KB)

耐熱・耐薬品・耐摩耗性に優れた高純度PFA※で石英ガラス基材を被覆することができます。
　　　　　※PFA＝テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体

◆石英ガラス基材へのPFAコーティング事例◆

◆石英ガラス基材（コーティング前）◆

◆細管◆

◆平面基材◆

◆円筒基材◆

ターミナルやコードリーダーを用いて、石英ガラス母材の肉中にマーキングした図形コード
を認識させることで、トレーサビリティ管理の精度や作業性の向上を図ることができます。
用途に応じて、１次元や２次元コード、位置合わせ、識別マーク等をマーキングする
ことができます。

詳しくはこちらの資料をご覧ください。
◆石英ガラス内部へのダイレクトマーキング　 (PDF形式：511KB)

登録済み特許
　特許6412156号　管理情報を設けた製品

多孔質の皮膜を基材からダメージレスで分離させる自立膜製法により、
セラミックスや高融点金属材料からなるポーラス構造体を低コストで製造することができます。

大表面積、断熱、軽量等の多孔質特性を生かす用途で有効です。

詳しくはこちらの資料をご覧ください。
◆ポーラス構造体　 (PDF形式：427KB)

登録済み特許
特許第5849083号
多孔質構造体の製造方法及び多孔質自立膜

製品に関するお問い合わせは、お電話、ＦＡＸまたは下記のお問合せフォームから
お気軽にお問い合わせください。

お問い合せ先:	営業本部（東京営業所）〒164-0012 東京都中野区本町 1-32-2 　ハーモニータワー12F	お問合せフォームはこちらから
【　本　社　】 Tel. Fax.	03-5351-0751 03-5351-0761	お問合せフォームはこちらから